中国科学院研究人员近日成功开发出一种突破性固态深紫外（DUV）激光，可发射193纳米的相干光，该波长目前广泛应用于半导体光刻领域。深紫外相干光，尤其是193纳米波长，已成为半导体制造中不可或缺的技术。

研究团队提出了一种紧凑型固态纳秒脉冲激光系统，通过复杂的谐波产生和光学参量放大技术，最终在6千赫兹重复频率下生成平均功率70毫瓦的193纳米激光。值得一提的是，该实验首次实现了固态激光产生193纳米涡旋光束，这一成果对种子混合ArF准分子激光器及晶圆加工、缺陷检测等应用具有重要价值。