天眼查App显示，2025年4月22日，「一种形貌参数的提取方法、装置、设备及可读存储介质」正式进入专利公布阶段。申请人为深圳中科飞测科技股份有限公司，该项半导体技术领域专利涉及纳米结构形貌参数的精确提取与计算。据专利信息显示，通过结合梯度优化算法和非梯度优化算法，该技术显著优化了形貌参数计算的准确性。发明人为马砚忠、杨天娟、白园园、陈鲁。 「本申请公开了一种形貌参数的提取方法、装置、设备及可读存储介质，可应用于半导体技术领域，该方法包括：获取待测纳米结构的实测散射图谱；确定与所述待测纳米结构对应的待测形貌参数；基于所述待测形貌参数，确定与所述待测纳米结构对应的理论散射图谱；基于所述理论散射图谱和所述实测散射图谱构建评价函数；基于所述评价函数和非梯度优化算法，确定所述待测形貌参数对应的初始参数值；基于所述评价函数和梯度优化算法对所述初始参数值进行优化，得到与所述待测形貌参数对应的目标参数值。如此，结合梯度优化算法和非梯度优化算法，先寻找参数解的相对位置然后精细求解待测纳米结构的形貌参数值，从而提高了形貌参数计算的准确性。」

免责声明：本文内容由开放的智能模型自动生成，仅供参考。