天眼查App显示，导语： 同方股份有限公司与同方中科超光科技有限公司联合申请的发明专利正式公布，涉及一种非连续短脉冲激光非相干偏振时序合成装置，技术领域为激光合成。
关键点：
- 事件类型： 专利公布
- 主体单位： 同方股份有限公司、同方中科超光科技有限公司
- 核心内容： 发明一种可将多路激光合成为同轴传播光束的装置，支持广范围重复频率（几赫兹至几百赫兹），并可扩展至三路及以上激光合成。
- 专利状态： 已公布，公布日期为2025年4月22日。
- 申请时间： 2025年1月15日
- 技术特点： 合成后的激光偏振态一致，适用于多种复杂激光应用场景。
- 联系方式： 地址为北京市海淀区王庄路1号清华同方科技大厦A座10层1002室，邮编100080。
本发明具有高扩展性和灵活性，为激光技术领域提供了新解决方案。
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