天眼查App显示，导语： 湖北兴福电子材料股份有限公司于2025年4月18日公布了一项发明专利，涉及一种高效去除氮化钽的蚀刻液，该技术在半导体制造领域具有重要应用价值。

关键点：
- 专利名称： 一种相对于硅选择性去除氮化钽的蚀刻液
- 申请时间： 2024年12月12日
- 公布时间： 2025年4月18日
- 核心成分： 包括氟离子源、氧化剂、有机酸、硅抑制剂等，配方精确控制以确保高选择性和表面平整度。
- 申请人： 湖北兴福电子材料股份有限公司
- 地址： 湖北省宜昌市猇亭区猇亭大道66-3号
- 专利类型： 发明专利
- 主要分类号： C09K13/08

如有进一步咨询需求，可联系湖北兴福电子材料股份有限公司或其代理机构宜昌市三峡专利事务所。

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