天眼查App显示，武汉帝尔激光科技股份有限公司近日成功研发并公开了一种用于激光转印的膜材料，该技术已获得国家发明专利，专利号为CN202411377834.4。这项创新技术属于激光转印技术领域，其核心在于通过胶粘层将浆料转印层和激光透射层粘结为一体，形成多层结构。

该膜材料的设计包括表层、中间层和底层，各层材料成分、混合比例及厚度均经过优选设计，并添加了特定助剂，以确保其在激光转印过程中的可靠性和高效性。这种新型膜材料不仅结构简单，性能稳定，还能有效提升浆料激光转印的效率和精度，延长膜材料的使用寿命。

武汉帝尔激光科技股份有限公司位于湖北省武汉市东湖新技术开发区，此次研发的膜材料具有较高的实用价值，预计将在激光转印领域带来显著的技术进步。该专利的公开时间为2024年9月30日，预计将于2024年12月31日正式发布。

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