天眼查App显示，上海新阳半导体材料股份有限公司于2023年6月30日公开了一项名为“一种清洗液”的发明专利，专利号为CN202310795373.1。该清洗液的原料包括氧化剂、胺类有机物、缓蚀剂、螯合剂、表面活性剂及水，各组分质量分数之和为100%。

该清洗液的特点在于不含氟化铵和金属离子，具有对刻蚀后残余物的优异清洗效果，同时能够选择性移除TiN硬遮罩，并抑制铜或铜合金及钴或钴合金的损伤。这一创新技术预计将广泛应用于半导体制造领域，提升生产效率和产品质量。

该专利的发明团队由王溯、蒋闯、冯强强、陈晓颜和张敏康组成，专利的公开标志着上海新阳在半导体材料研发领域的新突破。

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