天眼查App显示，上海新阳半导体材料股份有限公司于2023年6月30日公开了一项名为“一种清洗液”的发明专利，专利号为CN202310795357.2。该清洗液的原料包括氧化剂、胺类有机物、氟化物、缓蚀剂、螯合剂、表面活性剂以及水，各组分质量分数之和为100%。

该清洗液具有多项优点，包括较佳的稳定性、对蚀刻后残余物的清洗效果、选择性移除TiN硬掩模的能力，以及抑制铜或铜合金及钴或钴合金损伤的特性。这些特性使得该清洗液在半导体制造过程中具有广泛的应用前景。

上海新阳半导体材料股份有限公司位于上海市松江区思贤路3600号，是一家专注于半导体材料研发和生产的企业。此次公开的专利进一步展示了该公司在半导体材料领域的技术实力和创新能力。

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