天眼查App显示，盛美半导体设备（上海）股份有限公司于2023年6月29日申请了一项名为“一种电镀设备的静电消除装置及方法”的发明专利，并于2024年12月31日正式公开。该专利由陆陈华、孙凯凯、贾照伟、王坚、王晖等发明人共同研发，旨在解决电镀设备在运行过程中静电积聚的问题。

该静电消除装置包括桨叶安装件、导电件和控制件。桨叶安装件位于电镀腔内，用于安装桨叶；导电件一端连接桨叶安装件，另一端接地；控制件则根据电镀腔内部的状态参数，确定设备的目标状态，并控制导电件在目标状态下与地接通，从而消除静电。

该技术的应用将有效提升电镀设备的安全性和稳定性，减少因静电积聚导致的设备故障和生产事故。盛美半导体表示，该装置不仅适用于半导体行业，还可广泛应用于其他需要电镀工艺的领域。

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