天眼查App显示，中国电子工程设计院股份有限公司近日公开了一项名为“一种超纯水的二阶净化设备及净化工艺”的发明专利，专利号为CN202411759176.5。该技术通过一阶系统和二阶系统的协同作用，有效提升了超纯水的净化效果，为纳米半导体制造工艺提供了重要保障。

据悉，该设备的一阶系统包括除盐单元、第一混合光解吸收器和脱气单元，能够将一次纯水处理为二次纯水。二阶系统则包括膜吸收器、第二混合光解吸收器和脱气超滤单元，进一步将二次纯水处理为超纯水。其中，第一混合光解吸收器和第二混合光解吸收器分别具有不同的辐射剂量，确保水质的综合控制。

该技术的发明团队由程星华、杨光明、薛佳卉等多名专家组成，他们通过创新的工艺设计，解决了超纯水净化中的多项技术难题。该专利的公开日期为2024年12月31日，预计将为半导体制造行业带来显著的技术进步。

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