天眼查App显示，上海新阳半导体材料股份有限公司于2023年6月30日申请了一项名为“一种清洗液的制备方法”的发明专利，并于2024年12月31日正式公开。该专利由王溯、蒋闯、冯强强、于仙仙、张怡、王玮、程鑫共同发明，专利号为CN202310795351.5。

该清洗液的制备方法包括将氧化剂、胺类有机物、缓蚀剂、螯合剂、表面活性剂以及水按特定比例混合。其中，胺类有机物为氮烷基氢氧化铵和/或醇胺，螯合剂为未取代或被一个或多个C1-C4烷基取代的n乙烯m胺、多乙烯多胺和含氮有机酸中的一种或多种，表面活性剂为聚醚酰亚胺和/或聚乙酸乙烯酯。该清洗液不含氟化铵和金属离子，具有较佳的清洗效果和腐蚀效果。

上海新阳半导体材料股份有限公司位于上海市松江区思贤路3600号，此次发明的清洗液制备方法有望在半导体材料清洗领域得到广泛应用，提升清洗效率和环保性能。

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