DoNews10月15日消息，佳能公司近日宣布，其已经开始销售基于“纳米印刷”（Nanoprinted lithography）技术的芯片生产设备 FPA-1200NZ2C。佳能表示，该设备采用不同于复杂光刻技术的方案，可以制造5纳米芯片。

据芯智讯报道，在半导体制程技术进入5纳米节点之后，EUV极紫外光刻机已经成为了不可或缺的关键设备。

但是，因为EUV光刻机造价高昂，每台价格超过1亿美元，而且EUV光刻机仅荷兰ASML一家产生能够供应，且产能有限，这使得芯片的生产成本大幅升高。

为此，从2017 年开始，半导体设备厂佳能就与存储芯片大厂铠侠，以及光罩等半导体零组件制造商大日本印刷株式会社（DNP）合作，在日本三重县四日市的铠侠工厂内研发基于纳米压印（NIL) 的量产技术，可以不使用EUV光刻机，就能使制程技术推进到5nm。

佳能表示，这套生产设备的工作原理和行业领导者 ASML 的光刻机不同，其并不利用光学图像投影的原理将集成电路的微观结构转移到硅晶圆上，而是更类似于印刷技术，直接通过压印形成图案。

相较于目前已商用化的EUV光刻技术，铠侠在2021年就曾表示，NIL 技术可大幅减少耗能，并降低设备成本。

原因在于 NIL 技术的微影制程较为单纯，耗电量可压低至EUV 技术的10%，并让设备投资降低至仅有 EUV 设备的40%。

目前，EUV光刻机只有荷兰ASML一家能够生产供应，其不但价格高，而且需要许多检测设备的配合。

不过，虽然 NIL 技术有许多的优点，但现阶段在导入量产上仍有不少问题有待解决，其中包括更容易因空气中的细微尘埃的影响而形成瑕疵。